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溫度對(duì)洗脫時(shí)間的影響 (SI-36 4D)

更新時(shí)間:2025-01-10      點(diǎn)擊次數(shù):612
 此色譜柱請(qǐng)配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。

下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子,分析溫度和洗脫時(shí)間的關(guān)系。溫度對(duì)于洗脫時(shí)間的影響每種離子各不相同。溫度越高,硫酸根離子的洗脫速度越慢;在40 ℃或更高溫度下,硫酸根離子和溴離子的洗脫位置互換。由于碳酸鹽峰的位置也會(huì)變化,因此當(dāng)洗脫液為25 mM氫氧化鉀水溶液時(shí),建議使用30 ℃。

Sample: 25 μL

  1. 1.F- 0.5 mg/L
  2. 2.Cl- 3 mg/L
  3. 3.NO2- 5 mg/L
  4. 4.SO42- 10 mg/L
  5. 5.Br- 10 mg/L
  6. 6.NO3- 10 mg/L
  7. 7.PO33- 20 mg/L

Column:Shodex SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)
Eluent:25 mM KOH aq.
(Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)
Flow rate:0.7 mL/min
Detector:Suppressed conductivity
Column temp.:30. 35, 40, 45, 50 ℃

地址:上海市靜安區(qū)新閘路668號(hào)19樓

郵箱:Shodex_sales_cn@resonac.com

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